Mikrostrukturierung mit anwendungsspezifischen Objektiven

15. Januar 2018

Der Laser hat sich als universelles Werkzeug in unzähligen Anwendungen etabliert und die Anzahl der Anwendungen wächst stetig.

Die Strahlquellen, die für Mikrostrukturierungen verwendet werden, sind meist Kurzpuls- und Ultrakurzpulslaser. In Kombination mit 2D-Galvanometerscanner und F-Theta Optiken können unterschiedliche Materialien wie Metalle, Keramiken, Kunststoffe und Verbundwerkstoffe bearbeitet, strukturiert, gebohrt, geschweißt, perforiert, abgetragen oder gesintert werden.

Die Kombination aus 2D-Galvanometerscanner und F-Theta Objektiv stößt dann an Ihre Grenzen, wenn die abzubildenden Strukturen deutlich größer sind als der Laserspotdurchmesser (einige 100 µm oder mehr). Es kommt dort zu Bildfeldfehlern, welche die Struktur abhängig von der Lage im Bildfeld unterschiedlich verzerren.

Zur optischen Wiedergabe dieser ausgedehnten Strukturen werden dann spezielle Abbildungsobjektive benötigt. Diese zeichnen sich durch eine besonders verzeichnungsfreie Abbildung aus. Oft wird außerdem die abzubildende Maske verkleinert um Strukturen und Kantenschärfen im Mikrometerbereich zu erhalten.

Als Anbieter im Bereich von kundenspezifischen Speziallösungen hat Sill Optics auch bereits Maskenabbildungsobjektive im UV Bereich (193 nm, 248 nm, 355 nm) aber auch im IR Bereich (980 nm) entwickelt und gefertigt. Wenn dieses Thema auf Ihr Interesse stößt, freuen wir uns sehr über eine Kontaktaufnahme.